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真空蒸着

［残部僅少］

ジークフリート・シラー，ウルリッヒ・ハイジッヒ共著
日本真空株式会社訳

1977年6月1日　初版1刷
ISBN　4-7507-0409-1 C3057
発行　アグネ
A5判・上製／146頁
定価 4,180円（本体価格3,800円＋税 10%）

真空蒸着技術は古くから光学・電子工業で広く使われている技術であるが、ここ10年間にさらに多くの重要な用途が拡大されている。たとえば、プラスチック、ガラスおよび金属表面処理がこれである。さらに、イオンプレーティングが無公害めっきとして非常に注目されている。
本書は真空蒸着に関する本格的な解説書である。

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