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X線分析の進歩 27 (X線工業分析 31集)
日本分析化学会・X線分析研究懇談会 編
1996年3月31日 初版1刷
ISBN 978-4-900041-47-9 C3043
発行 アグネ技術センター
B5判・並製/353頁
定価 6,050円(本体価格5,500円+税 10%)
→厚さ:23mm,重さ:920g
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本書は昭和39年(1964年)に『X線工業分析』として発刊され、第5集から『X線分析の進歩』として毎年刊行されているものである。内容は、解説と報文、その年度におけるX線分析関係の論文・行事の紹介、機器についての資料集など。わが国における業界の年鑑といえるものである。 |
[目次]
T.X線の新たな応用:総説
1. X線鏡面反射と放射光マイクロビームXRDについて (宇佐美勝久・平野辰巳)
2. SPring-8による蛍光X線分析の新展開 (早川慎二郎・合志陽一)
U.蛍光X線分析:報文
3. 蛍光X線によるBi-Pb-Sr-Ca-Cu-O系超伝導体の組成解析法 (金子啓二・平林正之・金子浩子・伊原英雄・寺田教男・岡 邦彦・石橋章司・田中康資)
4. 超軽元素用エネルギー分散型検出器の開発とその応用(T) (田村浩一・佐藤正雄)
5. 微小試料の面積補正法による定量分析 (古澤衛一・山田興毅・荒木庸一・森 正道)
6. 全反射蛍光X線分析用標準試料に関する一考察 (森 良弘・佐近 正・島ノ江憲剛)
V.X線回折:報文
7. X線回折法による合金化溶融亜鉛めっき鋼板の合金相の厚さ分析 ―結晶質多層膜各層の厚さ分析法― (森 茂之・松本義朗)
8. Zn-Cr電析合金の相構造解析 (藤村 亨・片山道雄・下村順一)
9. Ge(111)4結晶平行法による2層薄膜の膜厚測定 (横川忠晴・大野勝美)
10. X線回折法によるストリート・ドラッグの由来類別 (南 幸男・宮沢 正・中島邦生・肥田宗政・三井利幸)
11. 粉末X線回折によるアデニンの結晶構造解析―圧力誘起相変態の解明― (倉橋正保・後藤みどり・本田一匡)
12. 粉末X線回折法による1,4-ベンゼンジチオールの結晶構造解析 (エルンスト ホルン・倉橋正保)
W.X線光電子分光分析:報文
13. 種々の配位構造を有する亜鉛(U)錯体のX線光電子およびオージェ電子スペクトル (藤原 学・松下隆之・池田重良)
14. C60X線光電子スペクトルのC1sピーク形状解析 (飯島善時・佐藤智重・佐藤哲也・平岡賢三)
15. 放射光を光源とする励起エネルギー可変XPS深さ方向分析 (島田広道・松林信行・今村元泰・佐藤利夫・西嶋昭生)
16. 電解合成複合酸化物膜のXPSによる解析 (佐々木 毅・越崎直人・松本泰道)
X.EPMA:報文
17. 固体ターゲットにおける電子後方散乱及び特性X線発生分布の モンテカルロ・シミュレーション (小沼弘義)
18. 2元,3元散布図分析のEPMAデータ解析への応用 (高橋秀之・大槻正行・高倉 優・近藤裕而・奥村豊彦)
Y.状態分析:報文
19. ムライト前駆体中のアルミニウムの配位数分析:XAFS法と27Al MAS NMR法との比較 (池田好夫・横山拓史・山下誠一・渡部徳子・脇田久伸)
20. 蛍光XAFS法による生体鉱物の非破壊状態分析 (沼子千弥・中井 泉)
21. 亜鉛流動焙焼炉焼鉱の硫黄の化学状態―焙焼炉操業に関連して― (河合 潤・北島義典・朝木善次郎)
22. X線励起ルミネッセンス収量法XAFSにおける自己吸収効果 (広瀬勇秀・早川慎二郎・合志陽一)
23. PIXEスペクトル自動解析プログラムの開発と希土類鉱石分析への応用 (下岡秀幸・西山文隆・廣川 健)
Z.技術ノート
24. 回折X線による顕微画像 (下村周一・中沢弘基)
[.既掲載X線粉末回折図形索引
\.1994年X線分析のあゆみ
1.X線分析関係文献集
2.X線分析関係国内講演会開催状況
3.X線分析研究懇談会講演会開催状況
4.X線分析研究懇談会規約
5.「X線分析の進歩」投稿の手引き
6.(社)日本分析化学会X線分析研究懇談会1995年度幹事委員名簿
7.「X線粉末回折図形集」の収集に御協力のお願い
X.軟X線放射分光に関するワークショップ
1.Theory of Molecular X-Ray Emission Spectroscopy
2.Analytical Expressions of Atomic Wave Functions and Molecular Integrals for the X-Ray Transition Probabilities of Molecules
3.B K-emission Spectra of Ion-plated Thin Film and Mechanically Milled Powders of Boron Nitride
4.Application of TXRF in Silicon Wafer Manufacturing
]T.X線分析関連機器資料
]U.既刊総目次
]V.X線分析の進歩27 索引
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〒107-0062 東京都港区南青山5-1-25 北村ビル TEL03-3409-5329(代表)/FAX03-3409-8237
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